レーザーを知る

レーザ分野で使用されている言葉を判りやすく解説します。

◆あ行

アクティブコンバータ

  • ACからDCへの変換またはその逆をトランジスターのスイッチングで行う素子。

アバーチャ

  • 開口の意味で、レーザ光の中心部を切り出したり、散乱光を除去するための穴の開いた遮光板のこと。

イオン交換

  • 名の通りイオンを交換すること。レーザ装置では純水の冷却水を用いるが、時間が経つと劣化するためにイオン交換ユニットで常に不純物のイオンを除去して純水に保っている。

エキスパンダ

  • レーザビーム径を拡大するレンズユニットのこと。

エネルギーフィードバック

  • 出射しているレーザ光のパワーを測定し、所要のパワーになるようにフィードバックして安定化を図る方式。

◆か行

回折限界

  • 光の波長(λ)と開口数(NA)で決まる解像限界(~λ / NA)のこと。

ガスカーテン方式

  • 原料ガスの供給を行う小型のノズルを基板とわずかな隙間をあけて設置し、ノズル先端より基板面にパージ用ガスの噴出、 吸込を行い、原料ガスのリークと周囲の雰囲気からの空気の混入と防ぐ。このようにガス(パージ)のカーテンで原料ガスを 局所的に封じ込め、レーザCVDを行う方法をガスカーテン方式レーザCVDという。

完全空冷

  • レーザ装置冷却に水を使わずにフィン、ファン、ペルチエ素子等で冷却すること。

擬似カラー処理

  • 演算処理で擬似的に着色することでデータ解析をしやすくする処理。

黒欠陥

  • フォトマスク上でパターンに不要な膜が残っている残留欠陥のこと。

高品位マーキング

  • レーザマーキングで文字が高コントラスト、明確なエッジ、均一性等で視認性の良いマーキングのこと。

厚膜抵抗

  • 抵抗膜を印刷・焼結等で作成した厚膜の抵抗のこと。

孤立欠陥

  • レチクル上でパターンのないところに孤立してできている欠陥のこと。

◆さ行

シングルモード

  • 高次モードの発生していない単一モードのレーザ発振のこと。このときレーザビームはガウシアン状の強度分布を持つ。

スキャニング

  • 走査すること。レーザビームの走査は走査ミラーとfθレンズを組み合わせた光学系で行われるのが一般的である。

スロープアップ / スロープダウン

  • レーザ光の出力制御の一種であり、徐々に出力を上げる、または下げること。割れの無いレーザ溶接を行うときに必要な出力制御方法の一つ。

純水

  • 水を化学的、物理的に処理して清澄にし、且つ溶解している物質を除去した水のこと。 レーザの冷却水には電気伝導度が低く絶縁体であることが必要なため純水が用いられる。

◆た行

チップ抵抗

  • 携帯用等の回路基板に直付けするチップサイズの超小型抵抗素子のこと。抵抗値の調整はレーザトリマで行われている。

超音波Qスイッチ

  • 超音波による弾性波を音響光学結晶に伝搬させ、生じた屈折率の粗密波でレーザ光を回折させてON、OFFのスイッチを行うQスイッチ素子。

低侵襲治療

  • 手術することなく切らずに病巣を直す等の、患者の負担が少ない治療方法。レーザによる痛みのない歯科治療も一例。

透過像

  • 観察対象物の裏面から照明光を照射し、対象物を透過する光の状態で観察される像。

◆な行

軟組織、硬組織

  • 歯科では歯茎(歯肉)が軟組織、エナメル質の歯が硬組織の例。

熱歪み

  • 材料に熱を加えたときに発生したり、その後に残る歪みのこと。

◆は行

ハイブリッドIC

  • 所望の機能を実現するために電子部品を一体化した集積化機能素子のこと。

波長変換

  • 光の波長を短波長や長波長に変換すること。非線形光学結晶を用いて和・差周波数を発生することで波長変換が行われている。

パルスレーザ

  • 間欠的なパルス状のレーザ光を出射するレーザ。kWレベルの高ピークパワーのレーザ光が特徴。

パワーフィードバック

  • 出射しているレーザ光のパワーを測定し、所要のパワーになるようにフィードバックして安定化を図る方式。 ※エネルギーフィードバックと同じ

ピーク出力

  • パルスレーザ光及びQ-SWレーザ光のピーク出力値のこと。

ビームポジショナ

  • 走査ミラーのこと。

ビーム径

  • レーザビーム径のことで、ビーム中心のピーク値の半値のところでのビーム径またはeー2値でのビーム径で定義する。

ビーム分割

  • レーザビームを複数に分割することで、ミラーで空間的に分割したり、時間的に分割することができる。

ピンホール欠陥

  • フォトマスクにある非常に微細な欠陥のこと。

ファーストパルス・サプレッサ

  • Q-SWレーザで最初に出る急峻なパルスを抑制する仕組み。

ファンクショントリミング

  • トリマ装置で回路基板の周波数等の性能値を調整するトリミングのこと。

フォトマスク

  • LCDや半導体などの製作工程で、パターンの原版となるもの。

プローブユニット

  • トリマ装置で被加工デバイスに測定用のプローブ(端子)を接触させる機構。

白欠陥

  • フォトマスク上でパターンに必要な膜がかけている欠損欠陥のこと。

薄膜抵抗

  • 蒸着等で薄膜を形成して抵抗にした抵抗素子。

反射像

  • 観察対象物の表面から照明光を照射し、対象物からの反射する光の状態で観察される像。

◆ら行

ランプ励起

  • 固体レーザの励起方法でランプを用いる方式。ランプにはキセノンランプやクリプトンランプが用いられる。

リモート監視

  • レーザ装置の状態をLANや電話回線で遠隔的に行う監視方法。

レーザCVD法

  • レーザによる化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition)。 レーザビームを原料ガス中に置かれた基板に照射し、レーザ照射面での原料ガスの化学・物理反応を促進し、 膜を成長させる成膜方法。ビーム照射位置に成膜が行われるため、フォトマスクやLCDパネルの修正などに使用されている。

レーザアッテネータ

  • 透過率や偏光を変えたりしてレーザビームの強度を減衰する機器。

レーザダイオード励起

  • 半導体レーザ(LD)を励起光源にした固体レーザの励起方式。 ※LD励起と同じ
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レーザトリミング

  • レーザで部分的に膜にカットを入れて抵抗素子等の調整をリアルタイムに処理する装置。

レーザ媒質

  • 電気的または光学的に励起することによって反転分布が形成され、誘導放出でレーザ光の発生ができる媒質を言う。 レーザ媒質には半導体、ガス、結晶があり、それぞれ半導体レーザ、ガスレーザ、固体レーザに用いられる。

レチクル検査機

  • 半導体デバイスの製作工程でパターンの縮小投影露光に使用されるフォトマスクを検査する専用の検査装置。